ICP-OES分析儀器

應用領域

1.水質分析：可檢測水質污染的八大重金屬等元素
2.冶金工業(yè)：可分析對金屬材料質量影響很大的As、Bi、Pb、Sb、Sn等雜質元素
3.水質分析：可檢測水質污染的八大重金屬等元素    ICP-OES分析儀器
4.地質、礦石分析：巖石樣品中Ca、Mg、Na、Fe、Cu、Mn、Zn、Co、Ni、Au、Ag等元素的測定

射頻發(fā)生器（RF）

（1） 電路類型：電感反饋自激式振蕩電路、同軸電纜輸出、匹配調諧、取功率 反饋信號，進行閉環(huán)自動控制。

（2） 工作頻率：40.68MHz ± 0.05

（3） 頻率穩(wěn)定性：<0.1

（4） 輸出功率：800-1200W

（5） 輸出功率穩(wěn)定性：&0.3

（6） 電磁場泄漏射強度：距機身20cm

電場強度E：＜2 V / m

進樣裝置

（1） 輸出工作線圈內徑 25mm 、3匝

（2） 炬管：三同心型，外徑 20mm的石英炬管

（3） 同軸型噴霧器外徑 6mm

（4） 雙筒型霧室外徑 34mm

（5） 觀測位置 縱向觀察低和橫向觀察前后，可通過軟件直觀地調為佳

（6） 氬氣流量計規(guī)格和載氣壓力表規(guī)格：

1等離子氣流量計 (100－1000)L/h  (1.6－16L/min)  電磁閥控制

2輔助氣流量計 (10－100)L/h  (0.16－1.66L/min)

3載氣流量計 (10－100)L/h  (0.16－1.66L/min)       電磁閥·控制·

4載氣穩(wěn)壓閥 (0－0.4Mpa)L/h

5冷卻水 水溫：15－25℃ 流量＞5L/min 水壓＞0.1Mpa 冷卻水：電阻率＞1MOmega

分光器

（1） 光路： Czerny－Turner

（2） 焦距： 1000mm

（3） 光柵規(guī)格：離子刻蝕全息光柵；刻線密度3600線/mm, 刻線面積：80×110mm  (可選用刻線密度2400線/mm, 刻線面積：80×110mm)

測光裝置

（1） 光電倍增管規(guī)格： R212UH或R928

（2） 光電倍增管負壓：200-1000V 自動調節(jié) 穩(wěn)定性＜0.05

（3） 光電倍增管電流測量范圍: 10-4~10-9A

（4） 信號采集為V/F交換: 1mV對應100Hz

（5） 采樣電路使用國外精密度運算放大器，使儀器的靈敏度和度大大提

儀器操作軟件要求

（1）操作系統(tǒng) Windows XP 操作平臺

（2）測定波長數(shù)  任意選擇

（3）數(shù)據(jù)庫 譜線庫11萬條以上

（4）多窗口 在測量完一次結果后可以在顯示窗口保留上次結果同時、測量下一樣品

（5）有標準加入法 軟件要有標準加入法，以便在不同條件和應用中下使用

（6）分析模式 軟件默認佳分析模式，擁有儀器診斷、譜圖分析及幾種測量方式和幾種積分模式，單位任選等多種功能

主要特點

ICP采用優(yōu)良的光學系統(tǒng)，的電子控制系統(tǒng)，保證了定位準確，信背比確保儀器的度和靈敏度。
關鍵部件采用進口元器件 確保儀器的度和靈敏度.
測量范圍： 超微量到常量的分析.
重復性：     相對標準偏差RSD<1.5
穩(wěn)定性：     相對標準偏差RSD<2.0
分析速度快： 掃描速度快達20個元素/min
分析元素多： 可對72種金屬元素和部分非金屬元素（P、B、Si、Se、Te）定性和定量分析.
檢出限低 ： 一般在ug/L(ppb)級. (1ug/ml Pb標準溶液性背比&ge5倍 )
測量線性范圍： （相關系數(shù)>0.9998）

儀器介紹

等離子體單道掃描光譜儀,是多元素順序測量的分析測試儀器。 該儀器由掃描分光器、射頻發(fā)生器、試樣引入系統(tǒng)、光電轉換、控制系統(tǒng)、數(shù)據(jù)處理系統(tǒng)、分析操作軟件組成。等離子體是在三重同心石英炬管中產(chǎn)生。炬管內分別以切向通入氬氣，炬管上部繞有紫銅負載線圈<內通冷卻水>當頻發(fā)生器產(chǎn)生的頻電流（工作頻率40MHz功率1KW左右）通過線圈時，其周圍產(chǎn)生交變磁場，使少量氬氣電離產(chǎn)生電子和離子，在磁場作用下加速運動與其它中性原子碰撞，產(chǎn)生更多的電子和離子， 在炬管內形成渦流，在電火花作用下形成等離子炬（即等離子體），這種等離子體溫度可達10000K以上。待測水溶液經(jīng)噴霧器形成氣溶膠進入石英炬管中心通道。原子在受到外界能量的作用下電離，但處于激發(fā)態(tài)的原子十分不穩(wěn)定，從較能級躍遷到基態(tài)時，將釋放出巨大能量，這種能量是以一定波長的電磁波的形式輻射出去。不同元素產(chǎn)生不同的特征光譜。這些特征光譜通過透鏡射到分光器中的光柵上，計算通過控制步進電機轉動光柵,傳動機構將分光后的待測元素特征譜線光強準確定位于出口狹縫處，光電倍增管將該譜線光強轉變?yōu)楣怆娏鳎俳?jīng)電路處理和V/F轉換后，由計算機進行數(shù)據(jù)處理，后由打印機打出分析結果。